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pvd鍍膜機(jī)
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PVD真空鍍膜簡介

2023-12-25 17:42:59

PVD (Physical Vapor Deposition),是物理氣相沉積的縮小簡稱,具有金屬蒸發(fā)的特性。它與不同的氣體反應(yīng)形成薄膜涂層。目前采用的PVD方法主要是電弧法和濺射法。這兩個(gè)過程需要在高真空中進(jìn)行。

PVD涂層是通過物理過程將原子或分子從源轉(zhuǎn)移到基體表面的過程。它的作用是將一些具有特殊性能(高強(qiáng)度、耐磨性、散熱性、耐腐蝕性等)的顆粒噴在性能較差的基體上,使基體具有良好的性能!

PVD真空鍍膜的基本方法:真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)

PVD又稱真空鍍膜、真空離子鍍鈦、真空鍍鉻,在工業(yè)上又稱真空鍍膜或PVD鍍膜、PVD鍍膜。PVD和電鍍(液相沉積、電化學(xué)沉積)薄膜的形成、成核和生長有一些相似之處,但它們的原理、反應(yīng)過程和薄膜性能有本質(zhì)的不同。

PVD真空鍍



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