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磁控濺射鍍膜機廣泛應用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品、工藝品、塑料手機殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。該系列設備主要采用直流(或中頻)磁控濺射,可用于銅、鈦、鉻、不銹鋼、鎳等多種金屬材料的涂層靶材。采用濺射工藝可以對薄膜進行鍍膜,可以提高薄膜的附著力、重復性、密度、均勻性等特性。
可利用時間控制薄膜厚度滿足設計工藝要求,節(jié)省晶控和光控環(huán)節(jié),為客戶節(jié)省大量膜厚儀耗材;可生產(chǎn)高折射率氮化膜,提高薄膜硬度性能;低溫成膜可用于多種用途;*利裝置自動調(diào)節(jié)氣體流量,保持目標電壓穩(wěn)定,保證成膜質(zhì)量;可選配校正板外調(diào)節(jié)機構。
磁控濺射鍍膜機的濺射沉積系統(tǒng)在側壁上安裝了多個圓柱形靶,以提高沉積速率和多層鍍膜。該系統(tǒng)采用直流脈沖或射頻功率的圓形陰極。垂直安裝的基板和圓柱形陰極減少了鍍膜過程中的顆粒污染。Ar膜(基片玻璃透過率>91.5%),420-680nm波段,單面平均透過率>95%,反射率小于0.5(平均值)%;雙面平均透過率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;彩色膜或漸變色膜:根據(jù)客戶樣品,任意位置裝膜或滿爐連續(xù)5爐,1.2;沸騰試驗:80℃沸騰30min,3M網(wǎng)格試驗(1*1mm),大于4B。
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