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光學真空鍍膜機采用的鍍膜技術一般為光學鍍膜。光學鍍膜技術的常用方法是用真空濺射法在玻璃基片上鍍膜。光學涂層通常用于控制襯底對入射光束的反射率和透射率，以滿足不同的需要。為了消除光學元件表面的反射損耗，提高成像質量，在光學元件表面涂覆一層或多層透明介質膜，稱為減反射膜或減反射膜。隨著激光技術的發(fā)展，光學鍍膜對薄膜的反射率和透射率提出了不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶減反射膜的發(fā)展。對于各種應用要求，高反射膜用于制造偏振反射膜、分色膜、冷光膜、干涉濾光片等。
光學元件表面涂覆后，光學涂層在涂層上多次反射和透射，形成多光束干涉。通過控制涂層的折射率和厚度，可以獲得不同的強度分布。這是干涉鍍膜的基本原理。
光學真空鍍膜機的折射率、吸收率和激光損傷閾值等光學性能主要取決于涂層的微觀結構。薄膜材料、殘余氣壓和襯底溫度可能會影響薄膜的微觀結構。如果基板表面上氣相沉積原子的遷移率較低，則涂層將含有微孔。當薄膜暴露在潮濕空氣中時，這些孔逐漸充滿水蒸氣。例如圓柱鏡。
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