歡迎訪問(wèn)佛山市佛欣真空技術(shù)有限公司官方網(wǎng)站!
誠(chéng)信,創(chuàng)新,團(tuán)結(jié),務(wù)實(shí),奉獻(xiàn)
層層把控,精益求精,持續(xù)創(chuàng)新,智造精品
一、鍍膜工藝原理介紹
PVD真空鍍膜是將鈦、金、石墨、晶體等金屬或非金屬、氣體等材料在真空中濺射、蒸發(fā)或離子鍍?cè)诨w上的一種表面處理工藝。與傳統(tǒng)的化學(xué)鍍膜方法相比,真空鍍膜具有許多優(yōu)點(diǎn),如對(duì)環(huán)境無(wú)污染,是一種綠色環(huán)保工藝;對(duì)操作者無(wú)傷害;漆膜牢固、致密、耐腐蝕、厚度均勻。真空鍍膜技術(shù)中常用的方法有蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子槍蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等)和濺射鍍膜(包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等),統(tǒng)稱(chēng)為物理氣相沉積(PVD)。
相應(yīng)的化學(xué)氣相沉積(CVD)被稱(chēng)為CVD技術(shù)。工業(yè)上通常稱(chēng)為“IP”(離子鍍)離子鍍膜,因?yàn)樵赑VD工藝技術(shù)中,多種氣體離子和金屬離子參與成膜過(guò)程并發(fā)揮重要作用,為強(qiáng)調(diào)離子的作用,統(tǒng)稱(chēng)為離子鍍膜。
真空鍍膜是一種制備薄膜材料的技術(shù)。在真空室中,材料的原子與熱源分離,并撞擊待鍍物體的表面。利用掩模技術(shù)在光盤(pán)上制備鋁膜,在印刷電路板上制備金屬膜。薄膜是在真空中制備的,包括晶體金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或復(fù)合薄膜的鍍膜。雖然CVD也采用減壓、低壓或等離子等真空方法,但真空鍍膜一般是指通過(guò)物理方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜是通過(guò)加熱和蒸發(fā)使物質(zhì)沉積在固體表面的一種鍍膜。
咨詢(xún)熱線
13929969711
武先生:13929969711
郵箱: info@foxinzk.com
官網(wǎng):http://beststudy.com.cn/
地址:佛山市南海區(qū)獅山鎮(zhèn)羅村聯(lián)和工業(yè)區(qū)聯(lián)桂中路7號(hào)之2